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DOC. 172.4845.5002.4200

STJ. Penal. Agravo regimental em habeas corpus substitutivo de recurso especial. Falsificação de documento público. Dosimetria. Culpabilidade. Regime inicial semiaberto. Circunstância judicial negativa. Agravo desprovido.

«I - «A jurisprudência desta Corte Superior de Justiça tem entendido que a atribuição ao acusado do papel de mentor intelectual da conduta delituosa é considerado fundamento idôneo para exasperação da pena-base na primeira fase da dosimetria» (EDcl no HC 234.861/SP, Quinta Turma, Rel. Min. Jorge Mussi, DJe de 24/4/2013).

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